| 1. Identificação | |
| Tipo de Referência | Artigo em Revista Científica (Journal Article) |
| Site | mtc-m16.sid.inpe.br |
| Código do Detentor | isadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S |
| Identificador | 6qtX3pFwXQZ3r59YDa/FEm5L |
| Repositório | sid.inpe.br/iris@1916/2005/04.04.17.25 (acesso restrito) |
| Última Atualização | 2005:04.04.03.00.00 (UTC) administrator |
| Repositório de Metadados | sid.inpe.br/iris@1916/2005/04.04.17.25.05 |
| Última Atualização dos Metadados | 2018:06.05.01.20.19 (UTC) administrator |
| Chave Secundária | INPE-12294-PRE/7614 |
| ISSN | 0168-583X 0167-5087 |
| Chave de Citação | AbramofBelUedGünReu:2001:ReSpMa |
| Título | Reciprocal space mapping of silicon implanted with nitrogen by plasma immersion ion implantation  |
| Ano | 2001 |
| Mês | Apr. |
| Data de Acesso | 21 maio 2024 |
| Tipo Secundário | PRE PI |
| Número de Arquivos | 1 |
| Tamanho | 113 KiB |
| 2. Contextualização | |
| Autor | 1 Abramof, Eduardo 2 Beloto, Antonio Fernando 3 Ueda, Mario 4 Günzel, R. 5 Reuther, H. |
| Identificador de Curriculo | 1 8JMKD3MGP5W/3C9JGUH 2 8JMKD3MGP5W/3C9JGJ8 3 8JMKD3MGP5W/3C9JHSB |
| Grupo | 1 LAS-INPE-MCT-BR 2 LAP-INPE-MCT-BR |
| Afiliação | 1 Laboratório Associado de Plasma, Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais, CP515, 12201-970 São José dos Campos, SP, Brazil 2 Research Center Rossendorf, Institute for Ion Beam Physics and Materials Research, Dresden, Germany |
| Revista | Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms |
| Volume | 175-177 |
| Páginas | 229-234 |
| Histórico (UTC) | 2005-04-04 17:34:24 :: sergio -> administrator :: 2006-09-28 22:24:08 :: administrator -> sergio :: 2008-01-07 12:52:40 :: sergio -> administrator :: 2018-06-05 01:20:19 :: administrator -> marciana :: 2001 |
| 3. Conteúdo e estrutura | |
| É a matriz ou uma cópia? | é a matriz |
| Estágio do Conteúdo | concluido |
| Transferível | 1 |
| Tipo do Conteúdo | External Contribution |
| Palavras-Chave | Reciprocal space mapping High-resolution X-ray diffraction Plasma immersion ion implantation Silicon crystals |
| Resumo | Nitrogen was implanted in (0 0 1) silicon wafers using 12 kV pulses in a glow-discharge plasma immersion ion implantation (PIII) system and at 35 keV in an electron-cyclotron-resonance (ECR) PIII facility. An implantation depth of 80 nm and a retained dose of approximately 3×1017 cm 2 were found, for both samples, from the nitrogen Auger profiles. Reciprocal space maps (RSMs) around the (0 0 4) and (1 1 3) Si lattice points were measured for the implanted and unimplanted Si wafers, using the high-resolution X-ray diffractometer in the triple axis configuration. An asymmetry in the reciprocal space coordinate Qz (perpendicular to the sample surface) indicates that the implanted atoms force an increase in the Si lattice parameter in this direction. A broadening in the Qx direction (parallel to the sample surface) was also observed, but with a less pronounced effect. For the sample implanted with higher energy, the shape of the map indicates a higher disorder in the crystal structure |
| Área | FISMAT |
| Arranjo 1 | urlib.net > BDMCI > Fonds > Produção anterior à 2021 > LABAS > Reciprocal space mapping... |
| Arranjo 2 | urlib.net > BDMCI > Fonds > Produção anterior à 2021 > LABAP > Reciprocal space mapping... |
| Conteúdo da Pasta doc | acessar |
| Conteúdo da Pasta source | não têm arquivos |
| Conteúdo da Pasta agreement | não têm arquivos |
| 4. Condições de acesso e uso | |
| Idioma | en |
| Arquivo Alvo | reciprocal.pdf |
| Grupo de Usuários | administrator sergio |
| Visibilidade | shown |
| Detentor da Cópia | SID/SCD |
| Política de Arquivamento | denypublisher denyfinaldraft24 |
| Permissão de Leitura | deny from all and allow from 150.163 |
| 5. Fontes relacionadas | |
| Unidades Imediatamente Superiores | 8JMKD3MGPCW/3ESR3H2 8JMKD3MGPCW/3ET2RFS |
| Divulgação | WEBSCI; PORTALCAPES; COMPENDEX. |
| Acervo Hospedeiro | sid.inpe.br/banon/2003/08.15.17.40 |
| 6. Notas | |
| Campos Vazios | alternatejournal archivist callnumber copyright creatorhistory descriptionlevel documentstage doi e-mailaddress electronicmailaddress format isbn label lineage mark mirrorrepository nextedition notes number orcid parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress project readergroup rightsholder schedulinginformation secondarydate secondarymark session shorttitle sponsor subject tertiarymark tertiarytype typeofwork url versiontype |
| 7. Controle da descrição | |
| e-Mail (login) | marciana |
| atualizar | |